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离子束刻蚀系统IBE

简要描述:v离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广

基础信息

产品型号

厂商性质

代理商

更新时间

2024-10-22

浏览次数

65
详细介绍

v 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果

v 应用方向:

Ø 磁阻式随机存取存储器(MRAM

Ø 介电薄膜

Ø III-V族光电子材料刻蚀

Ø 自旋电子学

Ø 金属电极和轨道

Ø 超导体

Ø 激光端面镀膜

Ø 高反射(HR)膜

Ø 防反射(AR)膜

Ø 环形激光陀螺反射镜

Ø X射线光学系统

Ø 红外(IR)传感器

Ø II-VI族材料

Ø 通信滤波器

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