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电子束蒸发镀膜机E-Beam

简要描述:v产品概述:系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成v设备用途:本系统配有一套电子枪及电源

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更新时间

2024-10-22

浏览次数

78
详细介绍

v 产品概述:系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成

v 设备用途:本系统配有一套电子枪及电源,可满足在AlNiAgPtPdMo,CrTi等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要

v 真空室尺寸:定制

v 极限真空度:6.0E-5Pa

v 沉积源:640cc坩埚

v 温度:300℃

v 电控描述:全自动

v 工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%

v 特色参数:样品尺寸及数量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架


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