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半导体烘箱

简要描述:v高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500ppm的气氛中,加热高达500℃的温度,并对材料进行热处理

基础信息

产品型号

厂商性质

代理商

更新时间

2024-10-22

浏览次数

82
详细介绍

v 高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500 ppm 的气氛中,加热高达 500℃ 的温度,并对材料进行热处理。非常适合各类退火,退应力,和各类抗氧化热处理

v 含氧控制:500PPM以内

v 温度范围:Room temp. +20~500℃

v 控温精度:±1.0℃

v 温度均匀性:±2.5%℃

v 升温时间:RT~ 500℃≤60min

v 容量:可定制


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