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EPMA-8050G

简要描述:搭载场发射电子光学系统 将岛津EPMA分析性能发挥到超高分辨率面分析对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析

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更新时间

2024-10-25

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85

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搭载场发射电子光学系统

将岛津EPMA分析性能发挥到


超高分辨率面分析

对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像(左侧)上直径只有50nm左右的Sn颗粒,在X射线图像(右侧)上也是清晰可见。


EPMA-8050G EPMA-8050G

■ 大束流超高灵敏度分析
实现3.0μA(加速电压30kV)的束流。
全束流范围无需更换物镜光阑。

■ 最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪
无人可及的52.5°X射线取出角。
4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。
最多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。

■ 全部分析操作简单易懂
全部操作仅靠一个鼠标就可进行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用户界面。

搭载导航模式,自动指引直至生成报告。


■ 的空间分辨率

EPMA可达到的别的二次电子图像分辨率3nm(加速电压30kV)分析条件下的二次电子分辨率。(加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA)


■ 二次电子图像分辨率3nm
碳喷镀金颗粒的观察实例。实现分辨率
3nm(@30kV)。相对较高的束流也可将电子束压

细聚焦,更加容易获得高分辨率的SEM图像


EPMA-8050G



超高灵敏度面分析

使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。精确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相(左侧),同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前(右侧)。


EPMA-8050G EPMA-8050G


实现微区超高灵敏度分析的技术

1 高亮度肖特基发射体
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大,输出更高。即可以保持其高亮度,还可提供高灵敏度分析的稳定大电流。

2  EPMA专用电子光学系统
电子光学系统,聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧,交叉点不是靠聚光透镜形成,而是由安装在与物镜光阑相同位置上,具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的(日本:第4595778号)。简单的透镜结构,既能获得大束流,同时全部电流条件下设定最合适的打开角度,将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。

3 超高真空排气系统
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔(orifice)间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小,以控制流入中间室的气体,使电子枪室始终保持着超高真空,确保发射体稳定工作。

4 高灵敏度X射线谱仪
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时,又可减小样品对X射线的吸收,实现高灵敏度的分析。

EPMA-8050G



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