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离子研磨系统

简要描述:v为了对样品内部结构进行观察、分析

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更新时间

2024-10-22

浏览次数

47
详细介绍

v 为了对样品内部结构进行观察、分析,必须让样品内部结构显露出来,日立离子研磨装置使用大面积低能量的Ar离子束,加工出无应力损伤的截面,为SEM观察样品的内部多层结构、结晶状态、 异物解析、层厚测量等提供有效的前处理方法

v 制成的低损伤的截面便于表层以下内部结构分析

v 适用样品:电子元件如IC芯片、PCBLED等(多层、裂

v 痕、孔洞分析)、金属(EBSD晶体结构、EDS元素分析、镀 层)、高分子材料、纸、陶瓷、玻璃、粉末等

v 可移动的样品座可精确定位、实现对特定位置的研磨

v 样品: 20 mm× 12 mm× 7 mm

v 联用样品台在机械研磨、离子研磨、SEM观察(Hitachi机型)之间不用更换样品台


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