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有掩膜光刻机

简要描述:v手动、半自动、全自动有掩膜光刻机v高分辨率掩模对准光刻

基础信息

产品型号

厂商性质

代理商

更新时间

2024-10-22

浏览次数

49
详细介绍

v 手动、半自动、全自动有掩膜光刻机

v 高分辨率掩模对准光刻,特征尺寸优于0.5微米

v 基片尺寸可满足46812英寸

v 经过特殊设计,方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料,包括砷化镓和磷化铟

v 设备可通过选配升级套件,实现紫外纳米压印光刻


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